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荷蘭擴大光刻機出口管制 中國表示“不滿”
中國商務部星期日(9月8日)發布聲明，針對荷蘭政府擴大對光刻機出口管制的決定“表示不滿”，指責美國“脅迫個別國家”加嚴管制。
荷蘭政府星期五(9月6日)表示，將擴大對荷蘭芯片設備製造商阿斯麥(ASML)的1970i和1980i 深紫外線(DUV)浸沒式光刻機的出口許可要求，兩款機型大約是ASML所屬DUV產品線的中階產品。
北京一直批評華盛頓向荷蘭和日本等盟國施壓，要求它們加入針對中國取得尖端芯片及芯片製造設備的出口管制。
「美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，……中國對此堅決反對，」中國商務部在回應荷蘭政府的聲明中表示。
中國商務部補充說道，荷蘭方面不應濫用出口管制措施，應避免有關措施阻礙兩國半導體產業正常合作和發展，並應切實維護「中荷企業和雙方共同利益」。
在美國的遊說下，全球最大的芯片製造設備供應商ASML已被有效阻止向中國出口其最先進的光刻系統。
荷蘭政府的最新決定，實際上也是從美國手中收回對這些工具的控制權，並使兩國政策保持一致。此前，美國為限制中國芯片製造商取得先進技術，單方面監管這些設備。
荷蘭貿易部長雷內特·克萊弗(Reinette Klever)上週五宣布這一調整時表示：“這一決定是為了我們的安全。”
“我們認為，由於技術的進步，這些特定生產設備的出口存在更多的安全風險，尤其是在當前地緣政治環境的背景之下。”
ASML在聲明中表示，預計此變更不會影響今年或未來的收益。
在美國的壓力下，荷蘭政府從未允許ASML向中國客戶出口其最先進的EUV設備，並從2023年9月開始要求NXT:2000系列及更好的DUV設備需要出口許可。 2023年10月，美國單方面開始限制ASML 1970i和1980i工具的出貨。
ASML已警告中國客戶，從2024年起不預期再交付這些設備。
在荷蘭宣布新決定的前一天，美國公佈更新出口規則，並收緊對量子計算和半導體製造設備等關鍵技術的出口管制。荷蘭更新的相關條款中採用了美國的措詞。
美國商務部在聲明中表示：「隨著具有軍事應用的關鍵技術不斷湧現和發展，對其動向進行監管的必要性也日益增加，以確保這些品項不被用於違反美國國家安全或外交政策的目的。
(此文依據了路透社的報道)